什么是介质膜介质膜SiO₂、Si₃N₄、SiON、Al₂O₃、光刻胶等的核心特点是透明或半透明光可以穿透这使得光学方法成为主角与金属膜完全不同。主要测量方法总览方法适用厚度破坏性精度最适合材料椭偏仪0.1nm–50μm无损±0.1nmSiO₂、Si₃N₄、光刻胶光学干涉法50nm–100μm无损±1nmSiO₂、氧化物反射光谱法10nm–100μm无损±1nm各类介质膜台阶仪10nm–1mm轻微±1nm所有介质膜SEM截面1nm–1mm破坏性±2%所有介质膜TEM截面0.1–500nm破坏性±0.5nm超薄介质膜AFM0.1nm–10μm无损±0.1nm需制台阶金属膜厚仪可测单层多层膜厚金属含量